Đột ngột lan truyền “Kế hoạch thiên niên kỷ” của Tập Cận Bình! Trung Quốc tính xây nhà máy sản xuất chip khổng lồ. Truyền thông Hong Kong: Sẽ vượt lệnh trừng phạt công nghệ của Mỹlg...

Bản tin tài chính FX168 (Hồng Kông) Theo lệnh cấm công nghệ của Hoa Kỳ, Trung Quốc có kế hoạch xây dựng một nhà máy lớn chứa nhiều máy quang khắc xung quanh một máy gia tốc hạt duy nhất để đạt được nội địa hóa sản xuất. Các nhà khoa học cho biết công nghệ này có thể vượt qua các lệnh trừng phạt của Mỹ và đưa Trung Quốc trở thành quốc gia dẫn đầu mới trong ngành công nghiệp chip bán dẫn. Đại học Thanh Hoa và chính quyền Khu vực mới Xiongan đang tích cực thảo luận về địa điểm xây dựng, Chủ tịch Trung Quốc Tập Cận Bình trước đó đã tuyên bố rằng, Khu mới Xiongan đã được đưa vào xây dựng quy mô lớn và cũng tập trung vào việc tiếp quản các chức năng phi thủ đô của Bắc Kinh, khu vực mới được coi là "Kế hoạch thiên niên kỷ".

Các nhà nghiên cứu Trung Quốc đang sử dụng máy gia tốc hạt để tạo ra các nguồn laser mới có thể đặt nền móng cho tương lai của ngành sản xuất chất bán dẫn. Các kế hoạch đang được tiến hành để xây dựng một máy gia tốc hạt có chu vi từ 100 đến 150 mét, nghĩa là từ 328 đến 492 feet, có kích thước bằng hai sân bóng rổ. Chùm tia điện tử của máy gia tốc sẽ được chuyển đổi thành nguồn sáng chất lượng cao để sử dụng trong sản xuất chip tại chỗ và thăm dò khoa học.

(Nguồn:SCMP)

Trái ngược với các công ty như ASML ở Hà Lan, có xu hướng giảm kích thước máy sản xuất chip xuất khẩu, dự án của Trung Quốc nhằm mục đích nội địa hóa sản xuất bằng cách xây dựng một nhà máy lớn chứa nhiều máy in thạch bản xung quanh một máy gia tốc duy nhất. Sự đổi mới này có thể tạo điều kiện thuận lợi cho việc sản xuất chip số lượng lớn, chi phí thấp và có khả năng đưa Trung Quốc trở thành quốc gia dẫn đầu trong lĩnh vực sản xuất công nghiệp chip tiên tiến.

Bạn biết đấy, hệ thống in thạch bản là một trong những cỗ máy phức tạp nhất được loài người tạo ra. Hiện nay, ánh sáng cực tím cực ngắn (EUV) có bước sóng cực ngắn được sử dụng rộng rãi trong sản xuất chip ở nút 7 nanomet trở xuống. ASML Hà Lan là công ty duy nhất sở hữu công nghệ này và do đó thống trị thị trường. Tính đến cuối năm 2022, ASML đã cung cấp 180 hệ thống EUV. Theo báo cáo được Bloomberg công bố vào tháng 4, công ty cũng có kế hoạch xuất xưởng 60 máy EUV trong năm nay.

Trong khi nhiều nhà nghiên cứu đang theo đuổi công nghệ này thì các nhà khoa học Trung Quốc lại khám phá những con đường khác nhau. Dự án đã được triển khai từ năm 2017 nhưng chỉ gần đây mới được công khai do những đột phá của Huawei trong sản xuất chip. Trưởng dự án Tang Chuanxiang, giáo sư tại Đại học Thanh Hoa, cho biết trong một báo cáo trên trang web của Đại học Thanh Hoa, “Một trong những ứng dụng tiềm năng trong nghiên cứu của chúng tôi là làm nguồn sáng cho các máy in thạch bản EUV trong tương lai và tôi nghĩ đây là lý do tại sao cộng đồng quốc tế đang đặc biệt chú ý”.

Tiến độ của dự án mới vẫn chưa được tiết lộ ra công chúng, nhưng Tang mong nhóm và ngành sẽ nỗ lực hơn nữa để giúp các doanh nghiệp vừa và nhỏ phát triển. Ông tin rằng công nghệ này có thể giúp Trung Quốc thoát khỏi các lệnh trừng phạt trong tương lai, nhưng không nói về tiến bộ cụ thể trong máy quang khắc.

Tờ South China Morning Post (SCMP) của Hồng Kông đưa tin nhóm Đại học Thanh Hoa đang tích cực thảo luận với chính quyền Khu vực mới Xiongan để lựa chọn địa điểm xây dựng cho dự án tiên tiến này. Vào ngày 10 tháng 5, Tập Cận Bình đã thị sát Khu vực mới Xiongan và nói rằng Khu vực mới Xiongan đã bước vào giai đoạn chú trọng ngang nhau vào "xây dựng quy mô lớn" và "thực hiện giảm bớt các chức năng phi vốn của Bắc Kinh".

Lý thuyết đằng sau nghiên cứu của nhóm là một cơ chế phát sáng mới gọi là microbunching trạng thái ổn định (SSMB), được đề xuất lần đầu tiên vào năm 2010 bởi Giáo sư Zhao Wu và sinh viên Daniel Ratner của Đại học Stanford. Điều đáng chú ý là Zhao là học trò của nhà vật lý nổi tiếng Yang Zhenning.

Nói tóm lại, lý thuyết SSMB sử dụng năng lượng được giải phóng bởi các hạt tích điện trong quá trình tăng tốc làm nguồn sáng. Kết quả là băng thông hẹp, góc tán xạ nhỏ và ánh sáng EUV thuần khiết liên tục.

Tang cho biết trong báo cáo của Tsinghua: “Chúng tôi vẫn còn một chặng đường dài để phát triển độc lập máy in thạch bản EUV, nhưng nguồn sáng EUV dựa trên SSMB cung cấp cho chúng tôi giải pháp thay thế cho các công nghệ đã được công nhận”.

"Cần phải liên tục thực hiện đổi mới công nghệ dựa trên nguồn sáng SSMB EUV và hợp tác với các ngành công nghiệp thượng nguồn và hạ nguồn để xây dựng một hệ thống in thạch bản có thể sử dụng được."

Ông cũng chỉ ra trong bài báo rằng việc hiện thực hóa nguồn sáng SSMB-EUV sẽ cung cấp các công cụ mới cho nghiên cứu tiên tiến về khoa học vật liệu, vật lý cơ bản, hóa sinh và các ngành khác.